LAB Motion Systems

LAB Motion Systems ofrece sistemas completos de posicionamiento de alta precisión y altas prestaciones.

El equipo de sistemas de posicionamiento se especializa en proyectos a medida adaptados a las necesidades de cada cliente.  El resultado son sistemas muy variados en cuanto a su composición y funciones.  Los sistemas están enfocados a satisfacer necesidades de alta precisión, incluyendo precisiones menores a una micra.  Dependiento de los requisitos del proyecto, de pueden utilizar movimientos con rodamientos o con camas neumáticas y combinaciones de movimientos lineales con movimientos rotacionales.

Forma de trabajar

Debido a su conocimiento profundo sobre sistemas de rodamiento,  LAB Motion Systems es capaz de personalizar totalmente un movimiento axial.  Se pueden integrar diferentes ejes de movimiento para formar un sistema compacto y rígido.

Las soluciones tienen un enfoque mecatrónico: servomotores, sistemas y software de control y rodamientos pueden ser desarrollados de manera específica para cada aplicación  En el caso de partes críticas o para ensambles se utilizan simulaciones para confirmar todos los cálculos.

Aplicaciones comunes:

  • Máquinas pick-and-place con altos requisitos de velocidad y precisión
  • Micro corte/soldadura con láser
  • Aplicaciones de rayos X
  • Inspección se semiconductores

Ejemplos de proyectos:

Debido a su conocimiento profundo sobre sistemas de rodamiento,  LAB Motion Systems es capaz de personalizar totalmente un movimiento axial.  Se pueden integrar diferentes ejes de movimiento para formar un sistema compacto y rígido.

Las soluciones tienen un enfoque mecatrónico: servomotores, sistemas y software de control y rodamientos pueden ser desarrollados de manera específica para cada aplicación  En el caso de partes críticas o para ensambles se utilizan simulaciones para confirmar todos los cálculos.

Aplicaciones comunes:

Sistema de 4 ejes

Movimiento en X:

Carrera 1.000 mm
Incremento mínimo 0,1 µm
Rectitud horizontal ± 0,4 µm
Rectitud vertical ± 0,4 µm
Pitch ± 2 µrad
Roll ± 2 µrad
Yaw ± 3 µrad

 

Movimiento en Z:

Carrera 300 mm
Incremento mínimo 0,1 µm
Rectitud horizontal ± 0,2 µm
Rectitud vertical ± 1,04 µm
Pitch ± 7 µrad
Roll ± 2 µrad

Sistema de 9 ejes

Movimiento en XY:

Carrera 1.000 mm x 500 mm
Incremento mínimo 0,1 µm
Rectitud horizontal ± 0,5 µm
Rectitud vertical ± 0,5 µm
Pitch ± 2 µrad
Roll ± 2 µrad
Yaw ± 3 µrad

 

Movimiento en Z:

Carrera 800 mm
Incremento mínimo 0,1 µm
Rectitud horizontal ± 0,5 µm
Pitch ± 2 µrad